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硅片气氛保护实验辊道炉

一、设备名称:硅片气氛保护实验辊道炉

二、设备用途:主要生产硅片(156x156x0.2mm)氧化性无尘生产实验

三、 主要技术参数

3.1   炉膛尺寸:  1380×500×100 (L×W×H)mm

3.2   外形尺寸:  1980×1500×1100(L×W×H)mm

3.3   额定温度:  1300℃

3.4   工作温度:  1000℃

3.5   控温精度:  ≤±2℃

3.6   炉内温差:   ≤±5℃

3.7   炉外温度:  ≤±40℃

3.8   控温组数:  3温区3 个控温表

3.9   工作速度: 全窑按5min计算,400mm/min,

3.10  调速范围: 120~700mm/min,

3.11  加热方式: 电加热,炉内的上部安装

3.12  加热元件: 硅碳棒,上部安装

3.13  加热功率: 36 KW

3.14  保温功率: 25KW

3.15  加热长度: 1080mm

3.16  炉衬材质: 整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛

3.17  保温材料: 轻质保温砖和纤维棉

3.18  保温层次:   底部330mm,两侧面各350mm,炉顶400mm

3.19  控 制 柜:  独立全自动控制

3.20  设备结构:  共1段

3.21  冷却方式: 自然冷却

3.22  输送方式: 45°斜齿轮传动

3.23  速度控制: 无极变频控制

3.24  进气类别: 氮气和氧气

以上参数和图片可作采购参考,可根据用户日产量需求定制各种规格尺寸,图为实物拍摄,图文仅供阅读,复制转载必究。

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